有选择地从硅片表面，除去不需要材料的过程。
完成之后，就能通过特定溶剂，洗去硅片表面残余的光刻胶了。
当然，这是最简易的光刻步骤，在实际生产制造中，比这复杂了上百倍。
蔡晋从开始光刻，到最后洗去残余的光刻胶，几个步骤，就足足花了三个多小时。
当然，这里面也是有他刚刚接触光刻机，操作不顺手的因素。
看着这生产出来的300nm芯片，蔡晋脸上露出了笑容。
虽然是低端芯片，但是这是好的开始。
他的目标，又不是这些300nm芯片，切确地说，不是为了芯片。
而是光刻机。
通过不断使用光刻机，去升级光刻机，这才是他的目的。
解决了制造机器，那么用机器来生产，就完全不是问题了。